FPD製造装置MPAsp-H760|概要

基本情報

・装置名： MPAsp-H760

特長

第8世代基板サイズ対応

半導体露光装置、液晶基板露光装置で実績のあるミラープロジェクション方式を採用しています。従来比（第5世代対応露光装置）で約2倍の口径を持つ大型ミラー投影系や、エアベアリング・リニアモーター駆動を利用した高速・高精度の超大型ステージを導入しています。これにより第8世代の基板サイズ2,200mm×2,500mmの全面露光を可能にし、55型ワイドTV用パネルで6面、46型ワイドTVパネルで8面、32型ワイドTVパネルで18面の面取りが可能です。

※ 2012年10月31日現在において

"基板サイズの推移"

57型ワイドまでの一括露光

高精度・大口径のミラー投影系の搭載により、最大で57型ワイドTV用のパネルまで継ぎ目なく一括露光することが可能です。大型液晶ディスプレイが1枚のマスクで一括して露光できるため、マスクデザインの規制がなく、合成部分の継ぎ目精度の維持やマスク管理が不要となり、トータルでの生産効率の向上を図ることができます

安定した解像力

一般に、一括露光面積を拡大するとマスクも大型化するため、マスクの自重によるたわみが像解像度に与える影響が無視できなくなります。新製品はこれを完全自動で補正する独自のシステムを搭載して、生産性の向上とより安定した解像力を両立しています。